Zakończyła się druga edycja polsko-chińskiego konkursu „Art & Design Competition 2020”, który organizowany jest w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC). W ubiegłym roku gospodarzem i organizatorem konkursu była Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim oraz Beijing University of Technology i Chongqing Jiaotong University. Opracowanie koncepcji oraz stronę merytoryczną konkursu zrealizował Wydział Architektury Politechniki Śląskiej.

Interdyscyplinarne Centrum Modelowania Matematycznego i Komputerowego (ICM) Uniwersytetu Warszawskiego za

Zapraszamy do udziału w II edycji Międzynarodowej Konferencji „Infrastruktura Krytyczna Miast”, która planowana jest w dniach 6-8 października 2021r. w Rytrze.